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    煤礦瓦斯儀器

    更新時間:2022-10-28
    當同一光源的兩束光分別經過充有空氣的參考氣室與充有待測氣樣的氣室時,兩束光將產生干涉條紋,待測氣樣的瓦斯濃度不同,光干涉的條紋的位置也不同,根據千涉條紋的位置可以測定瓦斯濃度。

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    當同一光源的兩束光分別經過充有空氣的參考氣室與充有待測氣樣的氣室時,兩束光將產生干涉條紋,待測氣樣的瓦斯濃度不同,光干涉的條紋的位置也不同,根據千涉條紋的位置可以測定瓦斯濃度。

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